文献
J-GLOBAL ID:201002254786019120
整理番号:10A0492398
InGaNのチャネルを持つ窒化物を基本とする二次元ヘテロ構造における移動度を制限する散乱機構
Mobility limiting scattering mechanisms in nitride-based two-dimensional heterostructures with the InGaN channel
著者 (11件):
GOEKDEN S
(Balikesir Univ., Balikesir, TUR)
,
TUELEK R
(Balikesir Univ., Balikesir, TUR)
,
TEKE A
(Balikesir Univ., Balikesir, TUR)
,
LEACH J H
(Virginia Commonwealth Univ., VA, USA)
,
FAN Q
(Virginia Commonwealth Univ., VA, USA)
,
XIE J
(Virginia Commonwealth Univ., VA, USA)
,
OEZGUER UE
(Virginia Commonwealth Univ., VA, USA)
,
MORKOC H
(Virginia Commonwealth Univ., VA, USA)
,
LISESIVDIN S B
(Bilkent Univ., Ankara, TUR)
,
LISESIVDIN S B
(Gazi Univ., Ankara, TUR)
,
OEZBAY E
(Bilkent Univ., Ankara, TUR)
資料名:
Semiconductor Science and Technology
(Semiconductor Science and Technology)
巻:
25
号:
4
ページ:
045024,1-7
発行年:
2010年04月
JST資料番号:
E0503B
ISSN:
0268-1242
CODEN:
SSTEET
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)