文献
J-GLOBAL ID:201002255045407030
整理番号:10A0731490
32nmリソグラフィ特性の改善
Improving lithographic performance for 32nm
著者 (10件):
BUSCH Jens
(GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU)
,
PARGE Anne
(GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU)
,
SELTMANN Rolf
(GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU)
,
SCHOLTZ Heike
(GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU)
,
SCHULZ Bernd
(GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU)
,
KNAPPE Uwe
(GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU)
,
RUHM Matthias
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
NOOT Marc
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
WOISCHKE Dieter
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
LUEHRMANN Paul
(ASML, Veldhoven, NLD)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7638
号:
Pt.1
ページ:
763805.1-763805.16
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)