文献
J-GLOBAL ID:201002255787987584
整理番号:10A0580530
サブ波長間隔をもつ近接場二重焦点フォトリソグラフィー
Near-field double-spot photolithography with subwavelength spacing
著者 (3件):
ZHANG Yaoju
(Coll. of Physics and Electronic Information, Wenzhou Univ., Wenzhou 325035, CHN)
,
SUYAMA Taikei
(Graduate School of Sci. and Technol., Kumamoto Univ., Kumamoto 860-8555, JPN)
,
SHI Tianzhen
(Coll. of Physics and Electronic Information, Wenzhou Univ., Wenzhou 325035, CHN)
資料名:
Optics Communications
(Optics Communications)
巻:
283
号:
15
ページ:
3022-3025
発行年:
2010年08月01日
JST資料番号:
A0678B
ISSN:
0030-4018
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)