文献
J-GLOBAL ID:201002258403607410
整理番号:10A1060918
任意の等高線のナノリッジ製造のための収縮エッジリソグラフィーおよびプラズマエッチングの組合せ
Combining retraction edge lithography and plasma etching for arbitrary contour nanoridge fabrication
著者 (8件):
ZHAO Yiping
(Univ. Twente, NLD)
,
JANSEN Henri
(Univ. Twente, NLD)
,
DE BOER Meint
(Univ. Twente, NLD)
,
BERENSCHOT Erwin
(Univ. Twente, NLD)
,
BOUWES Dominique
(iX-factory GmbH Dortmund, DEU)
,
GIRONES Miriam
(Nanomi B. V., Oldenzaal, NLD)
,
HUSKENS Jurriaan
(Univ. Twente, NLD)
,
TAS Niels
(Univ. Twente, NLD)
資料名:
Journal of Micromechanics and Microengineering
(Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻:
20
号:
9
ページ:
095022,1-13
発行年:
2010年09月
JST資料番号:
W1424A
ISSN:
0960-1317
CODEN:
JMMIEZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)