文献
J-GLOBAL ID:201002260737091117
整理番号:10A0727765
250nmから22nm設計ルールを用いたSRAMの中性子誘起ソフトエラーへのスケーリングの影響
Impact of Scaling on Neutron-Induced Soft Error in SRAMs From a 250nm to a 22nm Design Rule
著者 (5件):
IBE Eishi
(Hitachi, Ltd., Yokohama, JPN)
,
TANIGUCHI Hitoshi
(Hitachi, Ltd., Yokohama, JPN)
,
YAHAGI Yasuo
(Hitachi, Ltd., Yokohama, JPN)
,
SHIMBO Ken-ichi
(Hitachi, Ltd., Yokohama, JPN)
,
TOBA Tadanobu
(Hitachi, Ltd., Yokohama, JPN)
資料名:
IEEE Transactions on Electron Devices
(IEEE Transactions on Electron Devices)
巻:
57
号:
7
ページ:
1527-1538
発行年:
2010年07月
JST資料番号:
C0222A
ISSN:
0018-9383
CODEN:
IETDAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)