文献
J-GLOBAL ID:201002262727610305
整理番号:10A0346519
金属/HfO2/SiO2/n-Siから成る積層ゲートの仕事関数の測定において観測される正孔のトンネリング
Tunneling of holes observed at work function measurements of metal/HfO2/SiO2/n-Si gate stacks
著者 (4件):
ROTHSCHILD J. A.
(Dep. of Materials Engineering, Technion-Israel Inst. of Technol., Haifa 32000, ISR)
,
AVRAHAM H.
(Dep. of Materials Engineering, Technion-Israel Inst. of Technol., Haifa 32000, ISR)
,
LIPP E.
(Dep. of Materials Engineering, Technion-Israel Inst. of Technol., Haifa 32000, ISR)
,
EIZENBERG M.
(Dep. of Materials Engineering, Technion-Israel Inst. of Technol., Haifa 32000, ISR)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
96
号:
12
ページ:
122102
発行年:
2010年03月22日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)