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J-GLOBAL ID：201002269483375087 整理番号：10A1451933

高性能LTPS-TFTのためのDouble-Line-Beam CLCによる高結晶配向Poly-Si薄膜形成

Fabrication of Highly Crystalline-Oriented Poly-Si Thin Films by using Double-Line-Beam CLC for High Performance LPTS-TFT

著者 (6件)：

黒木伸一郎

(東北大大学院工学研究科)

川崎雄也

(東北大大学院工学研究科)

藤井俊太朗

(東北大大学院工学研究科)

小谷光司

(東北大大学院工学研究科)

伊藤隆司

(東京工大ソリューション研究機構)

伊藤隆司

(広島大ナノデバイス・バイオ融合科研)

資料名：

電子情報通信学会技術研究報告 (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))

巻： 110 号： 241(SDM2010 152-170) ページ： 45-48 発行年： 2010年10月14日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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