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文献
J-GLOBAL ID：201002269570991258
整理番号：10A1151918
エピタキシャルウルツ鉱型InN薄膜に対する成長方向依存硬度
Growth Orientation Dependent Hardness for Epitaxial Wurtzite InN Films
KATARIA Satender
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
,
LIU Ting-Wei
(National Taiwan Univ., Taipei, TWN)
,
LIU Ting-Wei
(Taiwan Normal Univ., Taipei, TWN)
,
HSIAO Ching-Lien
(National Taiwan Univ., Taipei, TWN)
,
DHARA Sandip
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
,
DHARA Sandip
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
,
CHEN Li-Chyong
(National Taiwan Univ., Taipei, TWN)
,
CHEN Kuei-Hsein
(National Taiwan Univ., Taipei, TWN)
,
CHEN Kuei-Hsein
(Academia Sinica, Taipei, TWN)
,
DASH Sitaram
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
,
TYAGI Ashok Kumar
(Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND)
資料名：
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
(Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 10 号： 8 ページ： 5170-5174 発行年： 2010年08月
JST資料番号： W1351A ISSN： 1533-4880 CODEN： JNNOAR 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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