文献
J-GLOBAL ID:201002271912363879
整理番号:10A0565129
CuとSiO2との間の極端に薄い拡散障壁としての反応性スパッタ蒸着ナノ結晶ZrN薄膜
Reactively Sputtered Nanocrystalline ZrN Film as Extremely Thin Diffusion Barrier between Cu and SiO2
著者 (4件):
TAKEYAMA Mayumi B.
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
SATO Masaru
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
AOYAGI Eiji
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
NOYA Atsushi
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
49
号:
5,Issue 3
ページ:
05FA06.1-05FA06.4
発行年:
2010年05月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)