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文献
J-GLOBAL ID：201002272618997602
整理番号：10A0710758
193nmリソグラフィーによる指向性自己集合の統合
Integration of Directed Self-Assembly with 193nm Lithography
SANDERS Daniel P.
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
CHENG Joy
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
RETTNER Charles T.
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
HINSBERG William D.
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
KIM Ho-Cheol
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
TRUONG Hoa
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
FRIZ Alexander
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
HARRER Stefan
(IBM Albany Nanotech, NY)
,
HOLMES Steven
(IBM Albany Nanotech, NY)
,
COLBURN Matthew
(IBM Albany Nanotech, NY)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 23 号： 1 ページ： 11-18 発行年： 2010年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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