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文献
J-GLOBAL ID：201002272877686054
整理番号：10A0117854
トリス(ジメチルアミノ)ホウ素ガスを用いてプラズマ支援化学蒸着によって堆積した水素含有窒化ホウ素炭素膜の誘電特性に及ぼす高周波電力の効果
Effect of the radio-frequency power on the dielectric properties of hydrogen-containing boron carbon nitride films deposited by plasma-assisted chemical vapor deposition using tris(dimethylamino)boron gas
AOKI Hidemitsu
(Dep. of Electrical, Electronic and Information Engineering, Osaka Univ., 2-l Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, JPN)
,
MASUZUMI Takuro
(Dep. of Electrical, Electronic and Information Engineering, Osaka Univ., 2-l Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, JPN)
,
HARA Makoto
(Dep. of Electrical, Electronic and Information Engineering, Osaka Univ., 2-l Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, JPN)
,
WATANABE Daisuke
(Dep. of Electrical, Electronic and Information Engineering, Osaka Univ., 2-l Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, JPN)
,
KIMURA Chiharu
(Dep. of Electrical, Electronic and Information Engineering, Osaka Univ., 2-l Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, JPN)
,
SUGINO Takashi
(Dep. of Electrical, Electronic and Information Engineering, Osaka Univ., 2-l Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 518 号： 8 ページ： 2102-2104 発行年： 2010年02月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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