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文献
J-GLOBAL ID：201002273308170950
整理番号：10A1337039
Cu薄膜の電気的性質を改善するためのパルス電着
Pulse Electrodeposition for Improving Electrical Properties of Cu Thin Film
KIM Myung Jun
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
CHO Sung Ki
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
KOO Hyo-Chol
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
LIM Taeho
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
PARK Kyung Ju
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
KIM Jae Jeong
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 157 号： 11 ページ： D564-D569 発行年： 2010年
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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