文献
J-GLOBAL ID:201002273920507033
整理番号:10A1542896
高アスペクト比のナノ規模鋳型を用いたUVナノインプリントリソグラフィーにおける解放特性の評価
Assessment of release properties in UV nanoimprint lithography using high-aspect-ratio nanoscale molds
著者 (3件):
TAKAHASHI Junki
(Dep. of Applied Electronics, Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, JPN)
,
TANIGUCHI Jun
(Dep. of Applied Electronics, Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, JPN)
,
KAMIYA Yasuhiro
(Dep. of Applied Electronics, Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻:
28
号:
6
ページ:
C6M23
発行年:
2010年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
2166-2746
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)