文献
J-GLOBAL ID:201002274038073465
整理番号:10A0346702
二ビーム顕微鏡による大面積直接書込み集束イオンビームリソグラフィー
Large area direct-write focused ion-beam lithography with a dual-beam microscope
著者 (4件):
IMRE Alexandra
(Center for Nanoscale Materials, Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
,
OCOLA Leonidas E.
(Center for Nanoscale Materials, Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
,
RICH Lauren
(Dep. of Physics, Missouri Univ. of Sci. and Technol., Rolla, Missouri 65409)
,
KLINGFUS Joseph
(Raith USA, Ronkonkoma, New York 11779)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻:
28
号:
2
ページ:
304
発行年:
2010年03月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
2166-2746
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)