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文献
J-GLOBAL ID：201002274144838934
整理番号：10A0466628
Fドープ酸化スズ上のPbZr0.4Ti0.6O3膜におけるアニーリング温度に従う微構造と関連特性の進展
Evolution of microstructure and related properties of PbZr0.4Ti0.6O3 films on F-doped tin oxide with annealing temperature
ZHANG T.
(National Lab. for Infrared Physics, Shanghai Inst. of Technical Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai 200083, CHN)
,
HU G. J.
(National Lab. for Infrared Physics, Shanghai Inst. of Technical Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai 200083, CHN)
,
BU H. J.
(National Lab. for Infrared Physics, Shanghai Inst. of Technical Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai 200083, CHN)
,
WU J.
(National Lab. for Infrared Physics, Shanghai Inst. of Technical Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai 200083, CHN)
,
CHU J. H.
(National Lab. for Infrared Physics, Shanghai Inst. of Technical Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai 200083, CHN)
,
DAI N.
(National Lab. for Infrared Physics, Shanghai Inst. of Technical Physics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai 200083, CHN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 107 号： 8 ページ： 084103 発行年： 2010年04月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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