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文献
J-GLOBAL ID：201002275133599993
整理番号：10A1542951
極端紫外レジスト性能に及ぼす現像化学の影響
Impact of development chemistry on extreme ultraviolet resist performance
GRONHEID Roel
(IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, BEL)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 28 号： 6 ページ： C6S1 発行年： 2010年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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