文献
J-GLOBAL ID:201002275371897366
整理番号:10A0731665
二重パターン形成用の単純化した「リソ-クラスタのみ」の解
Simplified-“Litho-Cluster-Only”-Solution for Double Patterning
著者 (11件):
TANAKA H.
(JSR Corp., Mie, JPN)
,
HOSHIKO K.
(JSR Corp., Mie, JPN)
,
SHIMOKAWA T.
(JSR Corp., Mie, JPN)
,
HOEFNAGELS H. F.
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
KELLER D. E.
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
WANG S.
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
TANRISEVEN O.
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
MAAS R.
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
MALLMANN J.
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
SHIGEMORI K.
(SOKUDO Co., Ltd., Shiga, JPN)
,
ROSSLEE C.
(SOKUDO Co., Ltd., Shiga, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7639
号:
Pt.2
ページ:
76391V.1-76391V.10
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)