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文献
J-GLOBAL ID:201002276282213905   整理番号:10A1539324

Si表面のナノ秒パルスレーザ照射下における自己組織化ナノドット形成のその場観察

In situ observation of self-organizing nanodot formation under nanosecond-pulsed laser irradiation on Si surface
著者 (6件):
WATANABE S.
(Center for Advanced Res. of Energy and Materials, Fac. of Engineering, Hokkaido Univ., N13, W8, Kita-ku, Sapporo ...)
YOSHIDA Y.
(Div. of Quantum Sci. and Engineering, Graduate School of Engineering, Hokkaido Univ., Kita-13, Nishi-8, Kita-ku ...)
KAYASHIMA S.
(Div. of Quantum Sci. and Engineering, Graduate School of Engineering, Hokkaido Univ., Kita-13, Nishi-8, Kita-ku ...)
YATSU S.
(Center for Advanced Res. of Energy and Materials, Fac. of Engineering, Hokkaido Univ., N13, W8, Kita-ku, Sapporo ...)
KAWAI M.
(High Energy Accelerator Res. Organization, 1-1 Oho, Tsukuba-shi, Ibaraki-ken 305-0801, JPN)
KATO T.
(Materials Res. Lab., Hitachi Ltd., 7-1-1 Omika, Hitachi-shi, Ibaraki-ken 319-1292, JPN)

資料名:
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

巻: 108  号: 10  ページ: 103510  発行年: 2010年11月15日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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