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文献
J-GLOBAL ID：201002276282213905
整理番号：10A1539324
Si表面のナノ秒パルスレーザ照射下における自己組織化ナノドット形成のその場観察
In situ observation of self-organizing nanodot formation under nanosecond-pulsed laser irradiation on Si surface
WATANABE S.
(Center for Advanced Res. of Energy and Materials, Fac. of Engineering, Hokkaido Univ., N13, W8, Kita-ku, Sapporo ...)
,
YOSHIDA Y.
(Div. of Quantum Sci. and Engineering, Graduate School of Engineering, Hokkaido Univ., Kita-13, Nishi-8, Kita-ku ...)
,
KAYASHIMA S.
(Div. of Quantum Sci. and Engineering, Graduate School of Engineering, Hokkaido Univ., Kita-13, Nishi-8, Kita-ku ...)
,
YATSU S.
(Center for Advanced Res. of Energy and Materials, Fac. of Engineering, Hokkaido Univ., N13, W8, Kita-ku, Sapporo ...)
,
KAWAI M.
(High Energy Accelerator Res. Organization, 1-1 Oho, Tsukuba-shi, Ibaraki-ken 305-0801, JPN)
,
KATO T.
(Materials Res. Lab., Hitachi Ltd., 7-1-1 Omika, Hitachi-shi, Ibaraki-ken 319-1292, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 108 号： 10 ページ： 103510 発行年： 2010年11月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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