文献
J-GLOBAL ID:201002276372872436
整理番号:10A0334031
物理的気相析出により作製し,ポリ(アゾ)ウレタンを含む薄膜の分子構成
Molecular Architecture of Thin Films Fabricated via Physical Vapor Deposition and Containing a Poly(azo)urethane
著者 (5件):
ALESSIO Priscila
(UNESP, SP, BRA)
,
CONSTANTINO Carlos Jose L
(UNESP, SP, BRA)
,
JOB Aldo Eloizo
(UNESP, SP, BRA)
,
AROCA Ricardo
(Univ. Windsor, On, CAN)
,
GONZALEZ Eduardo Rene Perez
(UNESP, SP, BRA)
資料名:
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
(Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻:
10
号:
5
ページ:
3012-3021
発行年:
2010年05月
JST資料番号:
W1351A
ISSN:
1533-4880
CODEN:
JNNOAR
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)