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文献
J-GLOBAL ID:201002276831543254   整理番号:10A0851267

アルゴンイオン照射のもとでのシリコン・ピッチグレーティングの二次元表面構造の発展: 実験とモデリング

Evolution of the 2D surface structure of a silicon pitch grating under argon ion bombardment: Experiment and modeling
著者 (5件):
BIZYUKOV Ivan
(Karazin Kharkiv National Univ., Fac. of Physics and Technologies, 31KurchatovAve., Kharkiv61108, UKR)
BIZYUKOV Ivan
(Univ. of Toronto Inst. for Aerospace Studies, 4925 Dufferin Street, Toronto, Ontario, Canada M3H 5T6)
MUTZKE Andreas
(Max-Planck-Institut fuer Plasmaphysik, EURATOM Assoc., Wendelsteinstr. 1, 17491 Greifswald, DEU)
SCHNEIDER Ralf
(Inst. of Physics, Ernst-Moritz-Arndt Univ., Felix-Hausdorff-Str. 6, 17489 Greifswald, DEU)
DAVIS James
(Univ. of Toronto Inst. for Aerospace Studies, 4925 Dufferin Street, Toronto, Ontario, Canada M3H 5T6)

資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)

巻: 268  号: 17-18  ページ: 2631-2638  発行年: 2010年09月 
JST資料番号: H0899A  ISSN: 0168-583X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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