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文献
J-GLOBAL ID：201002277532243720
整理番号：10A0661712
酸化物の反応性堆積におけるスパッタリング収率増幅効果のモデリング
Modelling of sputtering yield amplification effect in reactive deposition of oxides
KUBART T.
(Solid State Electronics, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., Box 534, 751 21 Uppsala, SWE)
,
KUBART T.
(Dep. of Control Engineering, Fac. of Electrical Engineering, Czech Technical Univ. in Prague, Technicka 2, Prague 6, CZE)
,
NYBERG T.
(Solid State Electronics, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., Box 534, 751 21 Uppsala, SWE)
,
PFLUG A.
(Fraunhofer IST, 38108 Braunschweig, DEU)
,
SIEMERS M.
(Fraunhofer IST, 38108 Braunschweig, DEU)
,
AUSTGEN M.
(Inst. of Physics (IA), RWTH Aachen Univ., 52056 Aachen, DEU)
,
KOEHL D.
(Inst. of Physics (IA), RWTH Aachen Univ., 52056 Aachen, DEU)
,
WUTTIG M.
(Inst. of Physics (IA), RWTH Aachen Univ., 52056 Aachen, DEU)
,
BERG S.
(Solid State Electronics, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., Box 534, 751 21 Uppsala, SWE)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 204 号： 23 ページ： 3882-3886 発行年： 2010年08月25日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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