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文献
J-GLOBAL ID：201002277550119069
整理番号：10A1094984
照射したSiO2ゾルゲル薄膜中のAgナノ粒子に関する空間的に制御した溶解
Spatially controlled dissolution of Ag nanoparticles in irradiated SiO2 sol-gel film
MASSERA J.
(School of Materials Sci. and Engineering, Clemson Univ., Clemson, SC 29634, USA)
,
MARTIN A.
(Inst. de Chimie de la Matiere Condensee de Bordeaux (ICMCB), CNRS UPR 9048, Av. du Dr. A. Schweitzer, 33608 Pessac ...)
,
CHOI J.
(Coll. of Optics, Center for Res. and Education in Optics and Lasers (CREOL), Univ. of Central Florida, Orlando, 4000 ...)
,
ANDERSON T.
(Coll. of Optics, Center for Res. and Education in Optics and Lasers (CREOL), Univ. of Central Florida, Orlando, 4000 ...)
,
PETIT L.
(School of Materials Sci. and Engineering, Clemson Univ., Clemson, SC 29634, USA)
,
RICHARDSON M.
(Coll. of Optics, Center for Res. and Education in Optics and Lasers (CREOL), Univ. of Central Florida, Orlando, 4000 ...)
,
OBENG Y.
(Nkanea Technologies Inc., 6440 Aylworth Drive, Frisco, TX 75035, USA)
,
RICHARDSON K.
(School of Materials Sci. and Engineering, Clemson Univ., Clemson, SC 29634, USA)
資料名：
Journal of Physics and Chemistry of Solids
(Journal of Physics and Chemistry of Solids)
巻： 71 号： 12 ページ： 1634-1638 発行年： 2010年12月
JST資料番号： C0202A ISSN： 0022-3697 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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