文献
J-GLOBAL ID:201002278712150735
整理番号:10A0700375
POSS部分を持つポリメタクリル酸ジブロック共重合体中形態構造に関するシンクロトロンすれすれ入射X線散乱研究
Synchrotron Grazing Incidence X-ray Scattering Study of the Morphological Structures in Thin Films of a Polymethacrylate Diblock Copolymer Bearing POSS Moieties
著者 (9件):
JIN Sangwoo
(Pohang Univ. Sci. and Technol., Pohang, KOR)
,
HIRAI Tomoyasu
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
AHN Byungcheol
(Pohang Univ. Sci. and Technol., Pohang, KOR)
,
RHO Yecheol
(Pohang Univ. Sci. and Technol., Pohang, KOR)
,
KIM Kwang-Woo
(Pohang Univ. Sci. and Technol., Pohang, KOR)
,
KAKIMOTO Masa-aki
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
GOPALAN Padma
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
,
HAYAKAWA Teruaki
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
REE Moonhor
(Pohang Univ. Sci. and Technol., Pohang, KOR)
資料名:
Journal of Physical Chemistry B
(Journal of Physical Chemistry B)
巻:
114
号:
24
ページ:
8033-8042
発行年:
2010年06月24日
JST資料番号:
W0921A
ISSN:
1520-6106
CODEN:
JPCBFK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)