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文献
J-GLOBAL ID：201002282293543826
整理番号：10A0597952
カルーセルスパッタ法で作製した高異方性磁界を持つCoFeB膜におけるスパッタ粒子の異方性入射効果
Anisotropically Incident Effect of Sputtering Particles on the High Anisotropy Field of a CoFeB Film in the Carrousel Sputtering Method
今泉良一
(崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所)
,
宗像誠
(崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所)
,
大越正敏
(九州工業大学情報工学部)
,
槙孝一郎
(住友金属鉱山株式会社)
,
青木振一
(崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所)
資料名：
Journal of the Magnetics Society of Japan
(Journal of the Magnetics Society of Japan)
巻： 34 号： 3 ページ： 226-231 (J-STAGE) 発行年： 2010年
JST資料番号： Z0944A ISSN： 1882-2924 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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