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文献
J-GLOBAL ID：201002282710340194
整理番号：10A0618424
高温で10MeV電子照射後のNi-Mo基ハステロイのミクロ組織安定性
Microstructural stability of an Ni-Mo based Hastelloy after 10 MeV electron irradiation at high temperature
WANDERKA Nelia
(Helmholtz Centre Berlin for Materials and Energy, Berlin, DEU)
,
ISHEIM Dieter
(Northwestern Univ., Evanston, USA)
,
ISHEIM Dieter
(Northwestern Univ. Center for Atom-Probe Tomography (NUCAPT), Evanston, USA)
,
BAKAI Alexander
(Kharkiv Inst. of Physics and Technol., Kharkiv, UKR)
,
ABROMEIT Christian
(Helmholtz Centre Berlin for Materials and Energy, Berlin, DEU)
,
SEIDMAN David N.
(Northwestern Univ., Evanston, USA)
,
SEIDMAN David N.
(Northwestern Univ. Center for Atom-Probe Tomography (NUCAPT), Evanston, USA)
資料名：
International Journal of Materials Research
(International Journal of Materials Research)
巻： 101 号： 5 ページ： 631-636 発行年： 2010年05月
JST資料番号： E0438A ISSN： 1862-5282 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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