文献
J-GLOBAL ID:201002283265138238
整理番号:10A0732808
グラフェンの浮遊積層におけるリップル構造の機械的性質
Mechanical properties of rippled structure in suspended stacks of graphene
著者 (6件):
LEE Hyunsoo
(Fac. of Nanotechnology and Advanced Material Engineering, Sejong Univ., Seoul 143-747, KOR)
,
YONG Hyeondeuk
(Fac. of Nanotechnology and Advanced Material Engineering, Sejong Univ., Seoul 143-747, KOR)
,
KIM K. B.
(Fac. of Nanotechnology and Advanced Material Engineering, Sejong Univ., Seoul 143-747, KOR)
,
SEO Yongho
(Fac. of Nanotechnology and Advanced Material Engineering, Sejong Univ., Seoul 143-747, KOR)
,
YUN Hoyeol
(Div. of Quantum Phases and Devices, School of Physics, Konkuk Univ., Seoul 143-107, KOR)
,
LEE Sangwook
(Div. of Quantum Phases and Devices, School of Physics, Konkuk Univ., Seoul 143-107, KOR)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
108
号:
1
ページ:
014302
発行年:
2010年07月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)