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文献
J-GLOBAL ID：201002283444506061
整理番号：10A0472204
大面積BaPbO3薄膜電極のための複合ターゲットからの反応性マグネトロンスパッタリング
Reactive magnetron sputtering from a composite target for large area BaPbO3 thin film electrode
VIDYARTHI V.s.
(Solid-State Electronics Lab., Technische Universitaet Dresden, 01062 Dresden, DEU)
,
SUCHANECK G.
(Solid-State Electronics Lab., Technische Universitaet Dresden, 01062 Dresden, DEU)
,
GERLACH G.
(Solid-State Electronics Lab., Technische Universitaet Dresden, 01062 Dresden, DEU)
,
LEVIN A.a.
(Inst. for Structure Physics, TechnischeUniversitaet Dresden, 01062 Dresden, DEU)
,
MEYER D.c.
(Inst. for Structure Physics, TechnischeUniversitaet Dresden, 01062 Dresden, DEU)
,
GROETZSCHEL R.
(Inst. of Ion Beam Physics and Materials Res., Forschungszentrum Dresden-Rossendorf, 01328 Dresden, DEU)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 518 号： 15 ページ： 4106-4112 発行年： 2010年05月31日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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