文献
J-GLOBAL ID:201002285002264479
整理番号:10A0731492
高速パターニングプロセスのエクスカーション制御ためのフルウエハマクロCDイメージング
Full wafer macro-CD imaging for excursion control of fast patterning processes
著者 (4件):
MARKWORT Lars
(Nanda Tech GmbH, Unterschleissheim, DEU)
,
KAPPEL Christoph
(Nanda Tech GmbH, Unterschleissheim, DEU)
,
KHARRAZIAN Reza
(Nanda Tech GmbH, Unterschleissheim, DEU)
,
GUITTET Pierre-Yves
(Nanda Tech GmbH, Unterschleissheim, DEU)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7638
号:
Pt.1
ページ:
763807.1-763807.9
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)