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文献
J-GLOBAL ID:201002285176786822   整理番号:10A0664865

結晶性Siの負荷速度依存性のナノインデンテーション研究における非晶質化の直接観察

Direct observation of amophization in load rate dependent nanoindentation studies of crystalline Si
著者 (11件):
DAS C. R.
(Materials Technol. Div., Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam 603102, IND)
DHARA S.
(Surface and Nanoscience Div., Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam 603102, IND)
JENG Yeau-ren
(Dep. of Mechanical Engineering, National Chung Cheng Univ., Chia-Yi 62102, Taiwan)
TSAI Ping-chi
(Dep. of Mechanical Engineering, National Chung Cheng Univ., Chia-Yi 62102, Taiwan)
HSU H. C.
(Inst. of Electro-Optical Sci. and Engineering, National Cheng Kung Univ., Tainan 70101, Taiwan)
RAJ Baldev
(Materials Technol. Div., Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam 603102, IND)
BHADURI A. K.
(Materials Technol. Div., Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam 603102, IND)
ALBERT S. K.
(Materials Technol. Div., Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam 603102, IND)
TYAGI A. K.
(Surface and Nanoscience Div., Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam 603102, IND)
CHEN L. C.
(Center for Condensed Matter Sciences, National Taiwan Univ., Taipei 106, Taiwan)
CHEN K. H.
(Center for Condensed Matter Sciences, National Taiwan Univ., Taipei 106, Taiwan)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 96  号: 25  ページ: 253113  発行年: 2010年06月21日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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