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文献
J-GLOBAL ID：201002286591785129
整理番号：10A0760240
HfNiSnハーフHeusler薄膜の構造および熱電特性
Structural and thermoelectric properties of HfNiSn half-Heusler thin films
WANG Shu-hui
(Industrial Technol. Res. Inst., Material and Chemical Res. Laboratories, Chung Hsing Rd., Sec.4 Chu Tung ...)
,
CHENG Hsin-ming
(Industrial Technol. Res. Inst., Material and Chemical Res. Laboratories, Chung Hsing Rd., Sec.4 Chu Tung ...)
,
WU Ren-jye
(Industrial Technol. Res. Inst., Material and Chemical Res. Laboratories, Chung Hsing Rd., Sec.4 Chu Tung ...)
,
CHAO Wen-hsuan
(Industrial Technol. Res. Inst., Material and Chemical Res. Laboratories, Chung Hsing Rd., Sec.4 Chu Tung ...)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 518 号： 21 ページ： 5901-5904 発行年： 2010年08月31日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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