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文献
J-GLOBAL ID：201002286816116094
整理番号：10A1379319
低圧CVDによるアルミニウムリッチなTiAlCNコーティング
Aluminum-rich TiAlCN coatings by Low Pressure CVD
ENDLER I.
,
HOEHN M.
,
HERRMANN M.
,
HOLZSCHUH H.
,
PITONAK R.
,
RUPPI S.
,
DEN BERG H. van
,
WESTPHAL H.
,
WILDE L.
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 205 号： 5 ページ： 1307-1312 発行年： 2010年11月25日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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