文献
J-GLOBAL ID:201002286938833633
整理番号:10A0201699
窒化ハフニウム薄膜の調整可能な電気及び光学特性
Tunable electrical and optical properties of hafnium nitride thin films
著者 (7件):
FARRELL I. L.
(Dep. of Physics and Astronomy, Univ. of Canterbury, Christchurch 8140, NZL)
,
REEVES R. J.
(Dep. of Physics and Astronomy, Univ. of Canterbury, Christchurch 8140, NZL)
,
PRESTON A. R. H.
(The MacDiarmid Inst. for Advanced Materials and Nanotechnology, NZL)
,
LUDBROOK B. M.
(The MacDiarmid Inst. for Advanced Materials and Nanotechnology, NZL)
,
DOWNES J. E.
(Dep. of Physics and Engineering, Macquarie Univ., New South Wales 2109, AUS)
,
RUCK B. J.
(The MacDiarmid Inst. for Advanced Materials and Nanotechnology, NZL)
,
DURBIN S. M.
(The MacDiarmid Inst. for Advanced Materials and Nanotechnology, NZL)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
96
号:
7
ページ:
071914
発行年:
2010年02月15日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)