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文献
J-GLOBAL ID：201002287019116050
整理番号：10A0695046
ペンタセン薄膜トランジスタ向けの低温加工性で優れた耐化学性を持つ光硬化性ポリイミドゲート絶縁体
Photocurable Polyimide Gate Insulator for Pentacene Thin-Film Transistor With Excellent Chemical Resistance by Low Temperature Processing
LEE Jin Hee
(Korea Res. Inst. Chemical Technol., Daejeon, KOR)
,
LEE Jin Hee
(Chungnam National Univ., Daejeon, KOR)
,
KIM Ji Young
(Korea Res. Inst. Chemical Technol., Daejeon, KOR)
,
YI Mi Hye
(Korea Res. Inst. Chemical Technol., Daejeon, KOR)
,
KA Jae Won
(Korea Res. Inst. Chemical Technol., Daejeon, KOR)
,
HWANG Taek Sung
(Chungnam National Univ., Daejeon, KOR)
,
AHN Taek
(Kyungsung Univ., Busan, KOR)
資料名：
Molecular Crystals and Liquid Crystals
(Molecular Crystals and Liquid Crystals)
巻： 519 ページ： 192-198 発行年： 2010年04月
JST資料番号： B0877A ISSN： 1542-1406 CODEN： MCLCE9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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