文献
J-GLOBAL ID:201002288459191140
整理番号:10A0133832
Hラジカル支援マグネトロンスパッタリングによるSi薄膜堆積における結晶成長の増強
Enhancement of Crystal Growth in Si Thin-Film Deposition by H-Radical-Assisted Magnetron Sputtering
著者 (3件):
FUKAYA Kota
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
TABATA Akimori
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SASAKI Koichi
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
49
号:
1,Issue 1
ページ:
015501.1-015501.5
発行年:
2010年01月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)