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文献
J-GLOBAL ID：201002289036218820
整理番号：10A1245658
Siのドライエッチング用の自己組織化多孔質高分子マスク
Preparation of Self-Organized Porous Polymer Masks for Si Dry Etching
HIRAI Yuji
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
YABU Hiroshi
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
MATSUO Yasutaka
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
MATSUO Yasutaka
(JST-CREST, Kawaguchi, JPN)
,
IJIRO Kuniharu
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
IJIRO Kuniharu
(JST-CREST, Kawaguchi, JPN)
,
SHIMOMURA Masatsugu
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
SHIMOMURA Masatsugu
(JST-CREST, Kawaguchi, JPN)
資料名：
Macromolecular Symposia
(Macromolecular Symposia)
巻： 295 ページ： 77-80 発行年： 2010年
JST資料番号： D0318C ISSN： 1022-1360 CODEN： MSYMEC 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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