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文献
J-GLOBAL ID:201002289472876620   整理番号:10A0516277

磁性,強誘電およびマルチフェロイック酸化物薄膜の成長および特性評価の進歩

Advances in the growth and characterization of magnetic, ferroelectric, and multiferroic oxide thin films
著者 (6件):
MARTIN L.w.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Illinois, Urbana-Champaign, Urbana, IL 61801, USA)
MARTIN L.w.
(Frederick Seitz Materials Res. Lab., Univ. of Illinois, Urbana-Champaign, Urbana, IL 61801, USA)
CHU Y.-h.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Chiao Tung Univ., HsinChu 30100, Taiwan)
RAMESH R.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering Univ. of California, Berkeley, Berkeley, CA 94720, USA)
RAMESH R.
(Dep. of Physics, Univ. of California, Berkeley, Berkeley, CA 94720, USA)
RAMESH R.
(Materials Sci. Div., Lawrence Berkeley National Lab., Berkeley, CA 94720, USA)

資料名:
Materials Science & Engineering. R. Reports  (Materials Science & Engineering. R. Reports)

巻: 68  号: 4-6  ページ: 89-133  発行年: 2010年05月20日 
JST資料番号: T0341A  ISSN: 0927-796X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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