文献
J-GLOBAL ID:201002290974761077
整理番号:10A0093766
立方晶相としてY2O3で安定化させたHfO2膜におけるポテンシャル特性の評価
Characterization upon potential properties of HfO2 stabilized by Y2O3 films as cubic phase
著者 (4件):
SHI Lei
(National Lab. of Solid State Microstructures, Nanjing Univ., Hankou Road 22, Nanjing 210093, People’s Republic of China)
,
ZHOU Yue
(National Lab. of Solid State Microstructures, Nanjing Univ., Hankou Road 22, Nanjing 210093, People’s Republic of China)
,
YIN Jiang
(National Lab. of Solid State Microstructures, Nanjing Univ., Hankou Road 22, Nanjing 210093, People’s Republic of China)
,
LIU Zhiguo
(National Lab. of Solid State Microstructures, Nanjing Univ., Hankou Road 22, Nanjing 210093, People’s Republic of China)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
107
号:
1
ページ:
014104
発行年:
2010年01月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)