文献
J-GLOBAL ID:201002291026992866
整理番号:10A0463465
高アスペクト比Moマスクを利用したエピタキシャル酸化物ナノ構造の作製
Fabrication of epitaxial oxide nano-structures with controllability using a high aspect-ratio Mo hollow nanopillar mask
著者 (3件):
CHA Nam-Goo
(Osaka Univ.)
,
KANKI Teruo
(Osaka Univ.)
,
TANAKA Hidekazu
(Osaka Univ.)
資料名:
応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻:
57th
ページ:
ROMBUNNO.19A-TQ-8
発行年:
2010年03月03日
JST資料番号:
Y0054B
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)