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文献
J-GLOBAL ID：201002291522620103
整理番号：10A0133838
Rotomak放電に基づいたフォトリソグラフィー応用のための極端紫外線源
An Extreme Ultraviolet Source for Photolithographic Applications Based on Rotamak Discharge
HUGRASS Waheed
(Univ. Tasmania, Tasmania, AUS)
,
OHNISHI Masami
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
,
CHIKANO Tomonori
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
,
TSUKAMOTO Masanobu
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 49 号： 1,Issue 1 ページ： 016201.1-016201.4 発行年： 2010年01月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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