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文献
J-GLOBAL ID:201002292459583320   整理番号:10A0048972

(111)配向InGaAsチャンネル上に作製した高電子移動度の金属-絶縁体-半導体電界効果トランジスタ

High Electron Mobility Metal-Insulator-Semiconductor Field-Effect Transistors Fabricated on (111)-Oriented InGaAs Channels
著者 (12件):
ISHII Hiroyuki
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
MIYATA Noriyuki
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
URABE Yuji
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
ITATANI Taro
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
YASUDA Tetsuji
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
YAMADA Hisashi
(Sumitomo Chemical, Ibaraki, JPN)
FUKUHARA Noboru
(Sumitomo Chemical, Ibaraki, JPN)
HATA Masahiko
(Sumitomo Chemical, Ibaraki, JPN)
DEURA Momoko
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
SUGIYAMA Masakazu
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
TAKENAKA Mitsuru
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
TAKAGI Shinichi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)

資料名:
Applied Physics Express  (Applied Physics Express)

巻:号: 12  ページ: 121101.1-121101.3  発行年: 2009年12月25日 
JST資料番号: F0599C  ISSN: 1882-0778  CODEN: APEPC4  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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