文献
J-GLOBAL ID:201002292459583320
整理番号:10A0048972
(111)配向InGaAsチャンネル上に作製した高電子移動度の金属-絶縁体-半導体電界効果トランジスタ
High Electron Mobility Metal-Insulator-Semiconductor Field-Effect Transistors Fabricated on (111)-Oriented InGaAs Channels
著者 (12件):
ISHII Hiroyuki
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
,
MIYATA Noriyuki
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
,
URABE Yuji
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
,
ITATANI Taro
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
,
YASUDA Tetsuji
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
,
YAMADA Hisashi
(Sumitomo Chemical, Ibaraki, JPN)
,
FUKUHARA Noboru
(Sumitomo Chemical, Ibaraki, JPN)
,
HATA Masahiko
(Sumitomo Chemical, Ibaraki, JPN)
,
DEURA Momoko
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
SUGIYAMA Masakazu
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
TAKENAKA Mitsuru
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
TAKAGI Shinichi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
2
号:
12
ページ:
121101.1-121101.3
発行年:
2009年12月25日
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)