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文献
J-GLOBAL ID:201002293850078858   整理番号:10A0193390

その場XRD分析で研究したAlCoCrCuFeNi高エントロピー合金薄膜の熱安定性

Thermal stability of AlCoCrCuFeNi high entropy alloy thin films studied by in-situ XRD analysis
著者 (5件):
DOLIQUE V.
(Groupe de Rech. sur l’Energetique des Milieux Ionises, UMR 6606 CNRS, Univ. d’Orleans BP 6744, 45067 Orleans Cedex 2 ...)
THOMANN A.-l.
(Groupe de Rech. sur l’Energetique des Milieux Ionises, UMR 6606 CNRS, Univ. d’Orleans BP 6744, 45067 Orleans Cedex 2 ...)
BRAULT P.
(Groupe de Rech. sur l’Energetique des Milieux Ionises, UMR 6606 CNRS, Univ. d’Orleans BP 6744, 45067 Orleans Cedex 2 ...)
TESSIER Y.
(Groupe de Rech. sur l’Energetique des Milieux Ionises, UMR 6606 CNRS, Univ. d’Orleans BP 6744, 45067 Orleans Cedex 2 ...)
GILLON P.
(ICARE CNRS 1C Av. de la Rech. Scientifique, 45071 Orleans Cedex 2, FRA)

資料名:
Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)

巻: 204  号: 12-13  ページ: 1989-1992  発行年: 2010年03月15日 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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