文献
J-GLOBAL ID:201002293978356753
整理番号:10A0254053
A面サファイア基板上GaNエピ層のナノインデンテーションの特性評価
Nanoindentation characterization of GaN epilayers on A-plane sapphire substrates
著者 (7件):
LIN Meng-hung
(Dep. of Mechanical Engineering, National Chiao Tung Univ., Hsinchu 300, Taiwan)
,
WEN Hua-chiang
(Dep. of Mechanical Engineering, Chin-Yi Univ. of Technol., Taichung 411, Taiwan)
,
HUANG Chih-yung
(Dep. of Mechanical Engineering, Chin-Yi Univ. of Technol., Taichung 411, Taiwan)
,
JENG Yeau-ren
(Dep. of Mechanical Engineering, National Chung Cheng Univ., Chia-Yi 621, Taiwan)
,
YAU Wei-hung
(Dep. of Mechanical Engineering, Chin-Yi Univ. of Technol., Taichung 411, Taiwan)
,
WU Wen-fa
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu 300, Taiwan)
,
CHOU Chang-pin
(Dep. of Mechanical Engineering, National Chiao Tung Univ., Hsinchu 300, Taiwan)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
256
号:
11
ページ:
3464-3467
発行年:
2010年03月15日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)