文献
J-GLOBAL ID:201002294177785233
整理番号:10A0268824
非化学量論的窒素ドープLPCVDケイ素薄膜の性質
Properties of non-stoichiometric nitrogen doped LPCVD silicon thin films
著者 (6件):
BOURIDAH H.
(Univ. Jijel, Ouled Aissa Jijel, DZA)
,
MANSOUR F.
(Univ. Mentouri, Constantine, DZA)
,
BEGHOUL M.-R.
(Univ. Jijel, Ouled Aissa Jijel, DZA)
,
MAHAMDI R.
(Univ. Mentouri, Constantine, DZA)
,
TEMPLE-BOYER P.
(LAAS, CNRS, Toulouse, FRA)
,
TEMPLE-BOYER P.
(Univ. Toulouse, Toulouse, FRA)
資料名:
Crystal Research and Technology
(Crystal Research and Technology)
巻:
45
号:
2
ページ:
119-123
発行年:
2010年02月
JST資料番号:
B0738A
ISSN:
0232-1300
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)