文献
J-GLOBAL ID:201002294658195928
整理番号:10A0133919
平行平板プラズマ増強化学蒸着により堆積した結晶珪素太陽電池用の高品質酸化アルミニウム不動態化層
High Quality Aluminum Oxide Passivation Layer for Crystalline Silicon Solar Cells Deposited by Parallel-Plate Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
著者 (4件):
MIYAJIMA Shinsuke
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
IRIKAWA Junpei
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
YAMADA Akira
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
KONAGAI Makoto
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
3
号:
1
ページ:
012301.1-012301.3
発行年:
2010年01月25日
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)