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文献
J-GLOBAL ID：201002295320265188
整理番号：10A1534696
H2O雰囲気での反応性スパッタリングによって作られたNiオキシ水酸化物薄膜のエレクトロクロミック特性に関するスパッタリングガス圧力の効果
Effects of Sputtering Gas Pressure on Electrochromic Properties of Ni Oxyhydroxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering in H2O Atmosphere
ABE Yoshio
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
UETA Hideaki
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
OBATA Takeshi
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
KAWAMURA Midori
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
SASAKI Katsutaka
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
ITOH Hidenobu
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 49 号： 11 ページ： 115802.1-115802.4 発行年： 2010年11月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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