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文献
J-GLOBAL ID：201002298685977984
整理番号：10A0710803
ポリイミドの表面レリーフと多孔性構造パターニング
Surface Relief and Porous Structure Patterning of Polyimide
KODERA Fumiaki
(Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN)
,
MATSUZAWA Yasushi
(Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN)
,
OKANO Kunihiko
(Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN)
,
TOMIYAMA Etsuko
(Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN)
,
YAMASHITA Takashi
(Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 23 号： 2 ページ： 235-240 発行年： 2010年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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