文献
J-GLOBAL ID:201002299852851315
整理番号:10A1124223
カスプ磁場を用いた純粋シリコンの300mm Czochralski結晶内の酸素分布のテイラリング
Tailoring the oxygen distribution in 300 mm Czochralski crystal of pure silicon using cusp magnetic field
著者 (2件):
GUNJAL Prashant R.
(Washington Univ. in St. Louis, MO, USA)
,
RAMACHANDRAN Palghat A.
(Washington Univ. in St. Louis, MO, USA)
資料名:
Progress in Computational Fluid Dynamics
(Progress in Computational Fluid Dynamics)
巻:
10
号:
5/6
ページ:
307-318
発行年:
2010年
JST資料番号:
W1390A
ISSN:
1468-4349
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)