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文献
J-GLOBAL ID:201102202740284284   整理番号:11A0825266

Al2O3-InGaAs MOSデバイスにおけるボーダートラップにおける分散モデル

A Distributed Model for Border Traps in Al2O3-InGaAs MOS Devices
著者 (9件):
YUAN Yu
(Univ. California-San Diego, CA, USA)
WANG Lingquan
(Univ. California-San Diego, CA, USA)
YU Bo
(Univ. California-San Diego, CA, USA)
SHIN Byungha
(Stanford Univ., CA, USA)
AHN Jaesoo
(Stanford Univ., CA, USA)
MCINTYRE Paul C.
(Stanford Univ., CA, USA)
ASBECK Peter M.
(Univ. California-San Diego, CA, USA)
RODWELL Mark J. W.
(Univ. California, CA, USA)
TAUR Yuan
(Univ. California-San Diego, CA, USA)

資料名:
IEEE Electron Device Letters  (IEEE Electron Device Letters)

巻: 32  号:ページ: 485-487  発行年: 2011年04月 
JST資料番号: B0344B  ISSN: 0741-3106  CODEN: EDLEDZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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