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文献
J-GLOBAL ID：201102205725013370
整理番号：11A0162484
ナノ秒パルスNd:YAGレーザ照射を用いたシリコン表面上へのドット状ナノ突起の作製
Fabrication of Dot-like Nano-protrusions on Silicon Surfaces Using Nanosecond Pulse Nd:YAG Laser Irradiation
YOSHIDA Yutaka
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
YATSU Shigeo
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
WATANABE Seiichi
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
KAWAI Masayoshi
(KEK, Tsukuba, JPN)
,
KATO Takahiko
(Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN)
資料名：
Transactions of the Japan Institute of Electronics Packaging
(Transactions of the Japan Institute of Electronics Packaging)
巻： 3 号： 1 ページ： 57-61 発行年： 2010年12月24日
JST資料番号： L7297A ISSN： 1883-3365 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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