文献
J-GLOBAL ID:201102205927837316
整理番号:11A0478586
V,Nb,Ta,Ti,TiN,およびWの金属超薄膜における局所プローブ酸化の動力学
Kinetics of Local Probe Oxidation of Ultrathin V, Nb, Ta, Ti, TiN, and W Metal Films
著者 (4件):
SAGUNOVA I.V.
(Moscow Inst. Electronic Technol.(Technical Univ.), Moscow oblast, RUS)
,
SHEVYAKOV V.I.
(Moscow Inst. Electronic Technol.(Technical Univ.), Moscow oblast, RUS)
,
GAVRILOV S.A.
(Moscow Inst. Electronic Technol.(Technical Univ.), Moscow oblast, RUS)
,
BELOV A.N.
(Moscow Inst. Electronic Technol.(Technical Univ.), Moscow oblast, RUS)
資料名:
Semiconductors
(Semiconductors)
巻:
44
号:
13
ページ:
1709-1713
発行年:
2010年12月
JST資料番号:
T0093A
ISSN:
1063-7826
CODEN:
SMICES
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)